半导体行业清洗用超纯水设备

半导体行业清洗用超纯水设备

　我公司生产的在设计上，采用成熟、可靠、、自动化程度高的二级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

　我们公司专业生产二级反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势，在国内具有一---定的市场jing争力。该产品由于具备性能好、国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在LED、LCD、半导体、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置，得到了业界的广泛赞誉，欢迎广大客户前来参观考察。

　部分案例：

　东莞市福地电子材料有限公司25吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备，出水水质：18 MΩ·cm。运营起始日期：2009年12月;

　浙江省宸亿电子有限公司20吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备，运营起始日期：2009年5月；

　东莞市高辉光电有限公司10吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备，运营起始日期：2006年12月；

　东莞市矽德半导体有限公司25吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备，运营起始日期：2006年6月；

　深圳市东宝光电有限公司3吨/小时二级反渗透+EDI+精混床18M超纯水设备，运营起始日期：2006年12月；

　比亚迪股份有限公司15吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备出水达到≥17 MΩ·cm，运营起始日期：2010年7月。

　黄山市中显微电子有限公司20吨/小时二级反渗透+EDI+精混床超纯水设备出水达到≥17 MΩ·cm，运营起始日期：2011年9月。

　我相信只有您实地考察，看了我们的厂房及工程设备，才会相信我们的实力，我们随时欢迎您的到来。耐心解答您的咨询，咨询我们前，请您告诉我们几个参数：

　1.原水水源（自来水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自来水，其它的水源，需要提供水质报告，水源不一样，处理工艺不一样，费用就有很大的差别;

　2.配置（需要高---端配置还是一般配置，就是指水泵有国产的还是进口的，反渗透膜用海德能的还是陶氏的，材质用不锈钢/玻璃钢/碳钢...）

　3.控制（全自动PLC/半自动/手动)

　4.出水水质要达到什么标准，电阻率要达到多少，有什么用途，如果不知道，也没关系，告诉我们您是做什么产品的，我们做给您设计出完---全符合您生产要求的方案。

　我们能够提供的服务

　1、原水水质分析

　2、水处理工艺技术方案与工程设计

　3、水处理项目投资报告、可行性分析

　4、水处理系统安装调试、技术施工服务

　5、反渗透设备维护、清洗、保养及售后服务

　6、技术培训

　7、工程施工管理及技术监督，跟踪服务 

　8、反渗透膜的清洗、多种零件的更改

　设备的售后服务

　1、负责所供设备的指导安装调试。

　2、提供需方设备维护人员培训。

　3、对所售设备提供一年保修（易损易耗件除外）、终生维修。

　4、为用户建立计算机管理档案，定期回访。

　5、设立顾客满意电话，随时接受用户咨询。

　6、分布在各地的售后服务人员将即时解决用户使用中产生的问题。

半导体行业清洗用超纯水设备介绍

一、半导体行业用超纯水水质标准：

　我公司电子级超纯水设备出水水质完---全符合ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

二、对水质的要求：

　新兴的半导体行业、光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　三、应用场合：

　1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

　2.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

　3.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

　4.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

　5.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

　6.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

　7.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

　8.集成电路生产中高纯水清洗硅片

　9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

　10.高品质显像管、萤光粉生产

　11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

　12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

　13.实验室和中试车间

　14.汽车、家电表面抛光处理

　15.光电产品、其他高科技精微产品

四、典型半导体行业清洗用超纯水设备制备工艺：

　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀---菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)

　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀---菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(新工艺)

　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第---二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀---菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(新工艺)

　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀---菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(新工艺)

　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀---菌器→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)

五、半导体行业清洗用超纯水设备特点

　为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

我公司专业生产半导体行业用超纯水设备、光电行业用水制水设备（高纯水、超纯水设备），可根据你的需要定制各种型号。我们更专业你才能更放心 ，我们诚信服务让你满意100 。　 Q:312601169

半导体行业清洗用超纯水设备